濺射電源用于中頻孿生靶磁控濺金屬或非金屬材料，特別適合于反應(yīng)磁控濺射。能增加離化率，減少電荷積累引起的異常放電，預(yù)防靶表面中毒現(xiàn)象。
濺射電源主要特點(diǎn)：
A 采用先進(jìn)的電流型
開(kāi)關(guān)電源技術(shù)，減小輸出儲(chǔ)能元件，同時(shí)提高了抑制打火及重啟速度，應(yīng)用在鋁靶鍍膜優(yōu)勢(shì)更為明顯。
B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式相對(duì)于傳統(tǒng)的恒流模式，更能保證鍍膜工藝的重復(fù)性。
C 具有理想的電壓陡降特性，自動(dòng)識(shí)別偽打火現(xiàn)象，充分滿(mǎn)足磁控濺射工藝過(guò)程的連續(xù)性。
D 主要參數(shù)可大范圍調(diào)節(jié)
E 可選擇手動(dòng)控制/模擬量接口控制，可選配RS485通訊接口。采用先進(jìn)的PWM脈寬調(diào)制技術(shù)，使用進(jìn)口IGBT或MOSFET作為功率開(kāi)關(guān)器件，體積小、重量輕、功能全、性能穩(wěn)定可靠，生產(chǎn)工藝嚴(yán)格完善。
